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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:STPA2203C Edwards磁懸浮渦輪分子泵

  • 產(chǎn)品型號(hào):STPA2203C
  • 產(chǎn)品廠商:Edwards
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
STPA2203C Edwards磁懸浮渦輪分子泵是為半導(dǎo)體應(yīng)用而設(shè)計(jì)的渦輪分子泵 STPA2203C Edwards磁懸浮渦輪分子泵它使用的轉(zhuǎn)子,可實(shí)現(xiàn)的性能,大的制程靈活性。全新的半機(jī)架控制器能夠節(jié)省更多空間,而且采用直流驅(qū)動(dòng),無需電池即可運(yùn)行。STPA2203C 已經(jīng)由半導(dǎo)體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型刻蝕、離子注入和沉積設(shè)備制造商投入使用,并得到了。
詳情介紹:
概述
Edwards STPA2203C 是為半導(dǎo)體應(yīng)用而設(shè)計(jì)的渦輪分子泵。它使用的轉(zhuǎn)子,可實(shí)現(xiàn)的性能,大的制程靈活性。全新的半機(jī)架控制器能夠節(jié)省更多空間,而且采用直流驅(qū)動(dòng),無需電池即可運(yùn)行。STPA2203C 已經(jīng)由半導(dǎo)體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型刻蝕、離子注入和沉積設(shè)備制造商投入使用,并得到了。

應(yīng)用
金屬(鋁)、鎢和電介質(zhì)(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和溴化物)
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源,射束線泵送端點(diǎn)站
MBE
擴(kuò)散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負(fù)載鎖真空腔
科學(xué)儀器:表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理:射束線、加速器
放射線應(yīng)用:融合系統(tǒng)、回旋

功能和優(yōu)勢(shì)
的轉(zhuǎn)子設(shè)計(jì)  
更高的氣體吞吐量
大的制程靈活性
5 軸磁懸浮系統(tǒng)  
無污染
少維護(hù)
防腐蝕  
可用于嚴(yán)苛制程
使用壽命延長
緊湊型設(shè)計(jì)  
占地面積小
半機(jī)架控制器
的控制器設(shè)計(jì)  
自動(dòng)調(diào)整
自行診斷功能
直流電機(jī)驅(qū)動(dòng)

無電池運(yùn)行


數(shù)據(jù)

入口法蘭 ISO250F
KF40
吹掃口 KF10
水冷卻接頭 PT1/4
抽速
  N2 2200 ls-1
  H2 1700 ls-1
壓縮比
  N2 >108
  H2 >2.5 x 104
極限壓力 10-6 Pa

(10-8 Torr)
允許的大前級(jí)壓力 400 Pa

(3 Torr)
大氮?dú)馔掏铝?/span> 1500 sccm
額定速度 27000 rpm
啟動(dòng)時(shí)間 7 分鐘
固定位置 任意
水冷卻流量 2 lmin-1
水冷卻溫度 5-25 °C
壓力 0.3 MPa
的吹掃氣體流量 20 sccm
輸入電壓 200 至 240 (± 10) V 交流
功耗 1.5 kVA
泵重量 61 kg
控制器重量 12 kg


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